ALD--Atomic Layer Deposition 原子层沉积,是在基底材料表面制备原子级别的沉积层. 而ALD关键技术需要精确控制工艺的环境参数，其反应器压力需要严格保持在合适的真空条件下，此时通过对反应物的时序脉冲喷射，才能达到准确沉积的效果。借助于Setra（西特）在电容式压力测量领域逾50年的经验积累， 730型真空电容式压力计无论从产品设计、制造工艺、品质管理，还是从成本控制等诸多方面，都是ALD设备制造商的理想之选。
Setra 730型真空电容式压力计
Setra（西特）730型真空电容式压力计是一款高精度的电容式压力计（亦称电容式膜片真空计 (CDG)），适合在光伏、半导体和工业市场中测量对过程控制至关重要的低真空范围。该产品读数精度达±0.5%，分辨率高，优于同类产品。730 型使用全InconelTM 接液材料，可承受半导体加工过程中的腐蚀性介质。由于采用直接测量设计，它能精确测量介质，不受应用中气体混合物成分的影响。
730产品特点
高精度，±0.5%读数
张紧的膜片保证优异的性能
工作温度补偿范围宽
回路噪声低，响应快
不易受环境条件变化影响
出色的抗过压设计
符合CE和RoHS规范
产品竞争优势
适合苛刻应用的高性能产品
采用单膜片可变电容感应元件，适用于苛刻的半导体和工业真空应用。它具有读数精度和分辨率高、动态范围宽的特点，使之成为关键制造过程中的理想选择。
Inconel® 设计保证通用性
所有接液部件均采用Inconel® 材料， 因此对半导体和工业真空过程中的腐蚀性介质具有极高的耐受性。Inconel®材料结合全焊接结构， 确保730型在这类应用中的长使用寿命。
直接压力测量
内置膜片可在使用点直接测量压力变化。与其他工业电容式压力计不同，730型测量直接压力， 不受被测混合气的影响，这使其精度优于间接测量型压力计。
产品应用
半导体处理室
石化
等离子体灭菌器
真空包装
ALD科普
ALD—Atomic Layer Deposition原子层沉积，是在基底材料表面制备原子级别的沉积层，这种沉积技术可广泛服务于各类半导体、光学、光电和电池材料的研究，且已经在相当多的IC器件、MEMS、传感器等生产工艺中发挥了巨大的效用。
相较于CVD(化学气相沉积)技术，ALD提供了更为精确的沉积层—自饱和的表面产物，厚度可控制在只有一层原子。如果说CVD是在地面摊了一层水泥砂浆，ALD则是把水泥、砂分别均匀完美的涂敷在了材料上，没有任何瑕疵。
这种更为精准的层沉积技术为材料带来的性能提升是不言而喻的。比如借助这种技术处理过的光电材料可使光电转换效率提升超过10%。用于FPD等光学显像玻璃时，可使成品亮度、对比度等关键性能大幅度提升。